今日彬盛翔水化工水处理讲堂给您解析微电子行业去离子纯水设备用途

　　今日彬盛翔水处理水处理讲堂给您解析微电子行业去离子纯水设备用途，彬盛翔水化工反渗透水处理工程师给您介绍微电子行业去离子纯水设备用途广泛，它可以用在：半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。

微电子行业清洗用高纯水设备技术参数：

1、电导率：≦0.2μs/㎝、电阻率：≥10MΩ·CM

2、PH：8～9.5、Cl、含量小于：5mg/l

3、O2含量小于：0.02mg/l、SO42-小于：5mg/l

4、油含量小于：1mg/l、LDl(朗格利尔值)<0

5、原水箱：V=1000L(螺纹式)、SUS304、壁厚：0.5mm

6、原水泵(配套)：N=0.55KW、SUS304

微电子工业制备超纯水的工艺大致分成以下三种：

一、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水—多介质过滤器—活性炭过滤器—精密过滤器—中间水箱—阳床—阴床—混床(复床)—超纯水箱—超纯水泵—后置保安过滤器—用水点

二、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式，其基本工艺流程为：原水—多介质过滤器—活性炭过滤器—精密过滤器—中间水箱—反渗透设备—混床(复床)—超纯水箱—超纯水泵—后置保安过滤器—用水点

三、采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水—多介质过滤器—活性炭过滤器—精密过滤器—中间水箱—反渗透设备—电去离子(EDI)—超纯水箱—超纯水泵—后置保安过滤器—用水点

彬盛翔水化工给您推荐去离子纯水阻垢剂MPS308。用途说明去离子纯水阻垢剂MPS308是专为反渗透（RO）系统开发的一种广谱高效阻垢剂。经实际使用证实MPS308对去除以下污垢卓有成效：碳酸钙，硫酸钙，硫酸钡，硫酸锶，氟化钙，二氧化硅和铁。可以控制在浓水中LSI达3.0，Fe3+含量1.5mg/l，二氧化硅含量185mg/l。可使用于美国陶氏化学公司(Dow. Filmtec)、海德能公司(Hydranautics)和国内等反渗透膜及TFC膜、纳滤膜元件。

产品特点

1:美国陶氏化学公司(Dow. Filmtec)、海德能公司(Hydranautics)、等推荐阻垢剂

2:不与铁铝氧化物及硅化合物凝聚形成不溶物

3:卓有成效的水处理阻垢剂，适用范围广

4:使用剂量减少，是控制结垢的高性价比方案

5:适用于各种类型的膜材料

6:可使系统运转的回收率更高

使用要求

加药量将去离子纯水阻垢剂MPS308连续投加至进入膜系统前的进水中。典型投加剂量为3-8mg/l，视水的化学性质和膜类型和系统运行参数（如回收率、温度与压力等）有所变化。具体加药量由服务商软件核算。

稀释MPS308应连续投加，建议在计量泵的最高频率下进行原液直接投加，也可以用RO产水或脱盐水稀释，稀释倍数不超过10。

物化性质

包装与贮藏

高强度塑料桶，25公斤/桶

有效期2年。

今日彬盛翔水化工水处理讲堂给您解析微电子行业去离子纯水设备用途介绍到这里，微电子行业对水质的要求比较好，所以准备上设备时各种耗材一定要认准厂家，请找彬盛翔水化工购买阻垢剂。彬盛翔水化工专业，高效，给您提供最合适的产品。